发明名称 作为垂直磁记录之溅镀靶材用之具有或未具有氧化物之Ni-X、Ni-Y、及Ni-X-Y合金NI-X, NI-Y, AND NI-X-Y ALLOYS WITH OR WITHOUT OXIDES AS SPUTTER TARGETS FOR PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING
摘要 本发明之各种实施例大体上系关于被用于垂直磁记录(PMR)应用之磁记录媒体用之种子层(seedlayer)的沈积,其中种子层为接续沈积之衬底层或粒状磁性层,提供晶粒尺寸之精细化及较少的晶格错位(mis-fit),且其中种子层系利用镍(Ni)合金系之溅镀靶材所沈积。该镍(Ni)合金可为二元(Ni-X;Ni-Y)或三元(Ni-X-Y)。此外,二元(Ni-X;Ni-Y)或三元(Ni-X-Y)镍(Ni)系合金更可与金属氧化物一起被制成合金,藉此形成具有包含了金属晶粒之粒状微结构的种子薄膜,该金属晶粒系受到富含氧之晶粒边界所围绕。各种例示性实施例中的镍系合金(具有或未具有金属氧化物)可藉由粉末冶金(powder metallurgical)技术或藉由熔铸(melt-casting)技术在利用或未利用热机械加工(thermo-mechanical working)的情况下制成。
申请公布号 TW200825190 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW096105585 申请日期 2007.02.15
申请人 贺利氏公司 发明人 戴亚班;肯史丹;麦吉恩
分类号 C23C14/06(2006.01);G11B5/667(2006.01) 主分类号 C23C14/06(2006.01)
代理机构 代理人 黄庆源;何爱文
主权项
地址 美国