微影装置、微影装置与处理模组之组合,以及元件制造方法

摘要

本发明揭示一种微影装置,其经组态以将一图案自一图案化元件转印至一基板上,其包括一经整合之后曝光烘焙元件,该后曝光烘焙元件经组态以使该基板经受一预定之温度循环。该基板之一后曝光烘焙步骤(一温度循环)在该图案转印之后于一预定时间周期内执行。该微影装置可与一具有一或多个处理模组之处理系统相结合。可以该组合进行更为有效之使用,从而使一元件制造方法具有灵活性。