发明名称 绕射光学元件,曝光设备及装置制造方法
摘要 揭露一种绕射光学元件。该绕射光学元件系用于曝光基底之曝光设备的照明光学系统中,及用于形成该照明光学系统之光瞳平面的光强度分布。该绕射光学元件包含彼此具有不同绕射动作的第一绕射元件及第二绕射元件,其中每一该第一绕射元件及该第二绕射元件具有于光照射之照射区中的对称点,及该对称点的共同中心。
申请公布号 TW200825634 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW096132902 申请日期 2007.09.04
申请人 佳能股份有限公司 发明人 植村卓典
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/44(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本