发明名称 |
从一基材移除含矽残留物的溶剂及方法 |
摘要 |
在此公开一种用于从基材顶部和背部的至少一部分和/或沉积装置除去含矽残留物的方法。另一方面,本发明提供了一种用于除去残留物的方法,其包括:用去除溶剂处理涂覆基材和/或沉积装置。 |
申请公布号 |
TW200825203 |
申请公布日期 |
2008.06.16 |
申请号 |
TW097103593 |
申请日期 |
2005.03.01 |
申请人 |
气体产品及化学品股份公司 |
发明人 |
史考特 杰佛瑞 微觉;史康特 奈瑞德拉 霍特;罗沙琳 帕图烈夏 摩利斯-奥斯卡尼恩;ROSALEEN PATRICIA;史帝文 杰拉得 梅欧嘉;詹姆斯 爱德华 麦克道格儿;李 塞尼加 |
分类号 |
C23C16/30(2006.01);H01L21/31(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/30(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈展俊;林圣富 |
主权项 |
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地址 |
美国 |