发明名称 电浆处理设备
摘要 本发明系关于一电浆处理设备,且更明确地,系关于一能够供应压力气体且同时避免微粒(聚积在腔室底部)飘扬的电浆处理设备。本发明的电浆处理设备包括一腔室;一设置在腔室底部以供应压力气体予腔室的吸入/排出部分,该吸入/排出部分系以向上增加其内部直径方式来装设;以及一连结至该吸入/排出部分以供应压力气体予该吸入/排出部分的压力气体源。该设备会更包含一连结至该吸入/排出部分以抽空腔室的真空源。
申请公布号 TW200826143 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW096112119 申请日期 2007.04.04
申请人 爱德牌工程有限公司 发明人 金春植
分类号 H01J37/32(2006.01) 主分类号 H01J37/32(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 韩国