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经营范围
发明名称
METHOD OF PLASMA ETCHING WITH PATTERN MASK
摘要
申请公布号
KR100838917(B1)
申请公布日期
2008.06.16
申请号
KR20070041743
申请日期
2007.04.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065;H01L21/306
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
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