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发明名称 COMPOSITION FOR PHOTORESIST PATTERN SHRINKAGE
摘要
申请公布号 KR20060074585(A) 申请公布日期 2006.07.03
申请号 KR20040113344 申请日期 2004.12.27
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE, GEUN SU
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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