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发明名称 FORMING PROCESS FOR INTERLAYER DIELECTRIC OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100598990(B1) 申请公布日期 2006.07.03
申请号 KR20050057364 申请日期 2005.06.29
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE, AN BAE;EUN, YONG SEOK;KIM, JAE SOO
分类号 H01L21/31;H01L21/20 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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