发明名称 光半导体基板
摘要 本发明之光半导体用基板具备:绝缘性陶瓷基板;和金属层,其系设置于上述绝缘性陶瓷基板上;和焊料层,其系设置于上述金属层上,为Sn单体或含有50重量%以上的锡(Sn),而剩余部分实质上是由金(Au)所构成;和保护层,其系设置于上述焊料层上,由厚度0.01μm以上、1μm以下之金(Au)或银(Ag)所构成。藉由使用此种光半导体用基板,在将容易因微小的应力而产生结晶缺陷的光半导体接合时、或于之后使用时,可将施加于光半导体的应力极力地减少,且可抑制结晶缺陷的产生而延长寿命。
申请公布号 TWI256756 申请公布日期 2006.06.11
申请号 TW093128756 申请日期 2004.09.22
申请人 东芝股份有限公司;东芝高新材料公司 发明人 白井隆雄;中村美保
分类号 H01S5/022 主分类号 H01S5/022
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光半导体用基板,其特征为具备: 绝缘性陶瓷基板;和 金属层,其系设置于上述绝缘性陶瓷基板上;和 焊料层,其系设置于上述金属层上,为锡(Sn)单体或 含有50重量%以上的锡(Sn),而剩余部分实质上是由 金(Au)所构成;和 保护层,其系设置于上述焊料层上,由厚度0.01m以 上、1m以下之金(Au)或银(Ag)所构成。 2.如申请专利范围第1项之光半导体用基板,其中, 上述焊料层的厚度是2m以上、5m以下。 3.如申请专利范围第1项之光半导体用基板,其中, 上述绝缘性陶瓷基板是由氮化铝、氮化矽、碳化 矽、氧化铍及钻石中选择1种作为主成分的构成。 4.如申请专利范围第3项之光半导体用基板,其中, 上述绝缘性陶瓷基板的热传导率是80W/mk以上。 图式简单说明: 第1图是表示一般半导体雷射元件的一例之剖面图 。 第2图是表示一般半导体雷射元件的电流-光输出 特性之关系图。 第3图是表示本发明之半导体雷射元件的一例之剖 面图。
地址 日本