发明名称 保护扩散薄膜及其制造方法
摘要 本发明系提供一种保护扩散薄膜,其系用于具备透镜薄膜之面型光源装置,该保护扩散薄膜系含透明基材层与树脂层,树脂层系设置于该透明基材层之上表面及下表面、不含微粒子、且表面具有微细之凹凸形状,而相对于各树脂层之涂覆量,该上表面树脂层与该下表面树脂层之涂覆量差系于-20%~20%之范围内。
申请公布号 TWI256487 申请公布日期 2006.06.11
申请号 TW091110415 申请日期 2002.05.17
申请人 大印刷股份有限公司 发明人 真崎忠宏;荒川文裕
分类号 G02B5/02;G02F1/1335;G09F9/35 主分类号 G02B5/02
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种保护扩散薄膜,其系用于具备透镜薄膜之面 型光源装置, 该保护扩散薄膜系含透明基材层与树脂层, 树脂层系设置于该透明基材层之上表面及下表面 、不含微粒子、且表面具有微细之凹凸形状, 该上表面树脂层与该下表面树脂层之表面粗糙度 指数Rz(十点平均粗糙度)系分别于1至6微米之范围 内, 而相对于各树脂层之涂覆量,该上表面树脂层及下 表面树脂层之涂覆量差系于-20%~20%之范围内。 2.如申请专利范围第1项之保护扩散薄膜,其中该上 表面树脂层与该下表面树脂层之组成成分为相同 者。 3.如申请专利范围第1或2项之保护扩散薄膜,其中 树脂层系由紫外线硬化型树脂所形成者。 4.如申请专利范围第1或2项之保护扩散薄膜,其中 该保护扩散薄膜之雾値系于15至50之范围内。 5.如申请专利范围第1或2项之保护扩散薄膜,其中 以Pcl方式测定,该上表面树脂层与该下表面树脂层 之Pc(突出处)计算数系介别于2至15之范围内。 6.一种制造如申请专利范围第1至5项中任一项之保 护扩散薄膜之方法,其系包含下述步骤: 于具有与树脂层凹凸形状相反之凹凸形状之圆筒 中,导入紫外线硬化型树脂;及 以紫外线照射该紫外线硬化型树脂,使该紫外线硬 化型树脂硬化以形成凹凸形状。 7.一种面型光源装置,其系具备: 光源; 面型照明装置,其系自照明面将该光源之光朝预定 之方向进行面型照明; 透镜薄膜,其系设置于该面型照明装置之照明面上 方;及 如申请专利范围第1至5项中任一项之保护扩散薄 膜,其系设置于该透镜薄膜之射出光面侧。 8.一种液晶显示装置,其系具备: 如申请专利范围第7项之面型光源装置、及透射型 之液晶显示元件, 该液晶显示元件系配置于该保护扩散薄膜之射出 光面侧。 图式简单说明: 图1为保护扩散薄膜之一部份之扩大截面图。 图2为Pcl方式之说明图。 图3为保护扩散层13A之形成步骤之概略说明图。 图4为液晶显示装置35之截面图,该装置系设置使用 保护扩散薄膜10之设置面型光源装置20。 图5为以往之液晶显示装置135之截面图,该装置系 设置使用保护扩散薄膜110之设置面型光源装置120 。
地址 日本