| 主权项 |
1.一种高、低频电浆清洗机,包含: 一腔体,设置在一机台上,并连接有抽气管用以使 该腔体内部可形成一真空腔室; 一电极平台,安装在腔体内部用以提供基材置放, 并有一可旋转的基座设在该电极平台底部用以带 动旋转; 一气体导入装置,用以将反应气体通入该腔体内; 一微波产生装置,用以将微波馈入该腔体内,使得 导入腔体内的反应气体会形成电浆;及 一射频电源供应器,用以将射频或是低频能量传导 至该腔体内,使得电极内会产生电浆,并透过一转 轴与上述电极平台连接用以引入射频能量; 其中,微波产生装置与射频电源供应器为可相互切 换或是同时使用,藉以清洗不同制程需求之基材。 2.如申请专利范围第1项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,腔体的一侧壁设有进气环,而反应气体与 微波系经由该进气环输入腔体。 3.如申请专利范围第2项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,进气环上配置有复数均匀分布的进气孔 以使反应气体可透过该等进气孔送入腔体内。 4.如申请专利范围第1项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,基座系受一马达带动,该马达架设在腔体 下侧一支撑架上。 5.如申请专利范围第1项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,转轴系设在腔体顶壁上的一螺旋接头,该 螺旋接头并构成该电极平台的一活动枢轴。 6.如申请专利范围第1项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,电极平台系由四周电极板围成,并具有至 少一开口。 7.如申请专利范围第1项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,射频电源供应器系与微波产生装置形成 垂直方向地安装在腔体上。 8.如申请专利范围第7项所述之高、低频电浆清洗 机,其中,射频电源供应器安装在腔体的顶壁上,而 微波产生装置安装在腔体的一侧壁外部。 图式简单说明: 第一图系本创作一实施例的立体示意图: 第二图系第一图之一侧视图; 第三图显示本创作使用微波实施清洗基材的示意 图;及 第四图显示本创作使用射频实施清洗基材的示意 图。 |
