发明名称 试料分析装置及碟状试料分析媒体
摘要 本发明系提供可藉简便之外部加热手段仅有效地加热光碟上之特定部位之试样分析装置及碟状试样分析媒体。本发明之试样分析装置及碟状试样分析媒体系在碟状基板1上形成分析区域3与光记录区域7,在前述分析区域3配置光吸收层12与光反射层11,以形成高温区域4与低温区域5。在前述高温区域4,因被照射之电磁波接触到前述光吸收层12而发热,在低温区域5,电磁波被前述光反射层11反射,并被高的热传导抑制温度之上升。因此,将试样液送入前述高温区域4与前述光吸收层12交互蛇行所形成之流路6内,可赋予该试样液热循环,以执行种种反应。
申请公布号 TWI256474 申请公布日期 2006.06.11
申请号 TW093123364 申请日期 2004.08.04
申请人 太阳诱电股份有限公司 发明人 荻原直人
分类号 G01N35/00;G01N21/07;B01L3/00;B01L7/00 主分类号 G01N35/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种试样分析装置,其特征在于包含在碟状基板 内设有:导入分析试样之流路之碟状试样分析媒体 ;支持该碟状试样分析媒体而使其旋转,藉离心力 使导入前述流路之试样流动之转碟手段;加热前述 碟状试样分析媒体以形成温度相异之区域之加热 手段;对前述碟状试样分析媒体之前述流路照射检 查光以分析试样之检查光照射手段;以及于设有前 述碟状试样分析媒体之纪录区域纪录之手段;其中 利用前述加热手段以流过前述流路之试样通过温 度相异之区域之方式构成。 2.如请求项1之试样分析装置,其中前述温度相异之 区域系以特定温度为界,分为比其高温之高温区域 与比其低温之低温区域,并以流过前述流路之试样 重复通过前述高温区域与前述低温区域之方式构 成。 3.如请求项1或2之试样分析装置,其中前述加热手 段系包含电磁波照射手段,前述检查光照射手段系 包含雷射光照射手段。 4.如请求项3之试样分析装置,其中前述电磁波照射 手段与前述雷射光照射手段系配置成分别由相异 之面侧对前述碟状试样分析媒体照射。 5.如请求项3之试样分析装置,其中前述电磁波照射 手段与前述雷射光照射手段系配置成由相同之面 侧对前述碟状试样分析媒体照射。 6.如请求项3之试样分析装置,其中前述电磁波照射 手段系包含多数光源者。 7.如请求项3之试样分析装置,其中前述电磁波照射 手段之形状系线状、环状或圆弧状者。 8.一种碟状试样分析媒体,其特征在于其系使用于 请求项1至7之试样分析装置者,且包含碟状基板与 为导入分析试样而形成于该基板内之流路,该流路 系形成在导入前述试样而前述碟状基板旋转时,藉 离心力使该试样沿着该流路流动之形状,并形成使 其重复通过前述加热手段形成之温度相异之区域, 于前述碟状基板设有纪录区域。 9.如请求项8之碟状试样分析媒体,其中前述温度相 异之区域系以特定温度为界,分为比其高温之高温 区域与比其低温之低温区域,在前述高温区域设有 吸收由前述电磁波照射手段所照射之光之光吸收 层。 10.如请求项8或9之碟状试样分析媒体,其中前述温 度相异之区域系以特定温度为界,分为比其高温之 高温区域与比其低温之低温区域,在前述低温区域 设有反射由前述电磁波照射手段所照射之光之光 反射层。 11.如请求项9之碟状试样分析媒体,其中前述光吸 收层及/或前述光反射层系通及前述高温区域及前 述低温区域之双方而配置者。 12.如请求项9之碟状试样分析媒体,其中进一步在 前述碟状基板设置记录区域与分析区域,在前述记 录区域形成预坑槽或预纹道,且前述分析区域包含 前述高温区域与前述低温区域。 图式简单说明: 图1系表示本发明之一实施形态之碟状试样分析媒 体之平面图。 图2系表示形成于上述碟状试样分析媒体之流路之 放大模式图。 图3(a)系表示上述碟状试样分析媒体之剖面之模式 图,图3(b)系表示形成于上述碟状试样分析媒体之 试样导入口及储液部剖面之模式图。 图4(a)~(d)系表示高温区域与低温区域中之光吸收 层与光反射层之配置之各种态样之说明图。 图5(e)~(h)系表示高温区域与低温区域中之光吸收 层与光反射层之配置之各种态样之说明图。 图6系表示本发明之另一实施形态之碟状试样分析 媒体之平面图。 图7系表示形成于上述碟状试样分析媒体之流路之 放大模式图。 图8系表示本发明之试样分析装置之一实施形态之 概略构成图。 图9(a)~9(c)系表示电磁波照射手段之态样之说明图 。 图10(a)~10(c)系表示构成本发明之碟状试样分析媒 体之碟状基板之模式图。 图11(a)~11(c)系表示本发明之试样分析装置之一实 施形态之模式图。 图12(a)~12(c)系表示本发明之试样分析装置之另一 实施形态之模式图。
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