| 主权项 |
1.一种发出辐射之光电组件(1),其是与吸热器(3)相 连接且用于一种以脉波宽度D来进行的脉波式操作 中,在脉波式操作时该光电组件之温度变化是利用 热时间常数来达成,其特征为:热时间常数依 据脉波宽度D来调整以使温度变化之振幅减小。 2.如申请专利范围第1项之光电组件,其中该热时间 常数适合:≧0.5D。 3.如申请专利范围第1项之光电组件,其中该热时间 常数适合:≧D。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之光电组件, 其中该温度变化小于T = 12K。 5.如申请专利范围第1至3项中任一项之光电组件, 其中该脉波式操作以0.1Hz和10Hz之间的脉波频率来 操作。 6.如申请专利范围第1至3项中任一项之光电组件, 其中该光电组件具有一种20W或更大的光学输出功 率。 7.如申请专利范围第1至3项中任一项之光电组件, 其中该吸热器(3)是一种冷却后的主动式吸热器。 8.如申请专利范围第7项之光电组件,其中该吸热器 (3)具有一个或多个由冷却剂所通过的微通道(6)。 9.如申请专利范围第8项之光电组件,其中该吸热器 之与光电组件(1)相邻的壁具有0.5mm或更大的壁厚(7 )。 10.如申请专利范围第8项之光电组件,其中该吸热 器之与光电组件(1)相邻的壁所具有的壁厚(7)介于1 mm和2mm(含)之间。 11.如申请专利范围第1至3项中任一项之光电组件, 其中该吸热器(3)含有铜。 12.如申请专利范围第1至3项中任一项之光电组件, 其中该光电组件(1)是一种雷射二极体条棒。 13.如申请专利范围第1项之光电组件,其中:该吸热 器(3)之与光电组件(1)相邻的壁具有一种壁厚(7)且 该光电组件(1)之温度变化及∕或最大温度在操作 时是藉由壁厚(7)之大小来调整。 14.如申请专利范围第1项之光电组件,其中该热时 间常数藉由基板之面积及∕或厚度来调整,该光 电组件(1)制作在该基板上。 图式简单说明: 第1图 本发明之光电组件之一实施例的切面图。 第2图 对4种不同实施形式的吸热器在时间轴0ms至 300ms上对一种光电组件之加热之模拟。 第3图 对4种不同实施形式的吸热器在时间轴0ms至 1000ms上对一种光电组件之加热之模拟。 |
