发明名称 具黏合作用之带状结构
摘要 一种具黏合作用之带状结构,系包括有一撕开膜、一抗黏层、一胶黏层、以及一图案化涂层,其中该撕开膜具有相对之第一及第二表面,该抗黏层系形成于该第一表面上,该胶黏层系局部形成于该第二表面,且该图案化涂层系连续分布于该第二表面未设有胶黏层之区域,俾得在卷绕时提供良好平整度,同时提供辨识及静电防护效果。
申请公布号 TWM290493 申请公布日期 2006.05.11
申请号 TW094220604 申请日期 2005.11.28
申请人 朱玟璇 发明人 朱玟璇
分类号 B65D33/16 主分类号 B65D33/16
代理机构 代理人 陈昭诚 台北市中正区博爱路80号6楼
主权项 1.一种具黏合作用之带状结构,系包括: 撕开膜,具有相对之第一及第二表面; 抗黏层,系全面形成于该撕开膜第一表面上; 胶黏层,系局部形成于该撕开膜第二表面之一侧; 以及 图案化涂层,系连续分布于该撕开膜第二表面上相 对该胶黏层之另一侧。 2.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该撕开膜为向性聚丙烯(OPP,Oriented Polypropylene )及聚乙烯(PE,Polyethylene)之其中一者。 3.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该撕开膜第二表面系预先进行有抗黏及粗化 处理。 4.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该抗黏层为离型剂层,俾于该具黏合作用之 带状结构卷绕为成品时,令该胶黏层不致黏附至该 撕开膜之第一表面上。 5.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该具黏合作用之带状结构复可选择形成另一 抗黏层于该撕开膜与该胶黏层之间。 6.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该图案化涂层系利用印刷方式布设于该撕开 膜上。 7.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该图案化涂层之厚度系与该胶黏层之厚度相 同。 8.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该图案化涂层系用以提供使用者作辨识,以 达广告宣传及美观效果。 9.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构, 其中,该胶黏层对该撕开膜之第二表面之黏着力系 小于该胶黏层对被缄封物品之黏着力,该胶黏层对 该抗黏层之黏着力系小于该胶黏层对该撕开膜之 第二表面之黏着力。 10.如申请专利范围第1项之具黏合作用之带状结构 ,其中,该图案化涂层之材质系采用抗静电材料。 图式简单说明: 第1图为习知之缄封带之局部构造剖视图; 第2图为习知之缄封带成品之立体示意图; 第3图为本创作之具黏合作用之带状结构剖面示意 图; 第4图为本创作之具黏合作用之带状结构平面示意 图;以及 第5图为本创作之具黏合作用之带状结构成品立体 示意图。
地址 桃园县桃园市经国路888号14楼之2
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