| 主权项 |
1.一种微影投影装置,包括: 一辐射光系统,用于提供一投影辐射光束; 一用于支撑定出图案构件之支撑结构,该定出图案 构件根据一偏好图案将该投影光束图案化; 一支撑一基材之第一基材支撑架; 一支撑一基材之第二基材支撑架; 一投影系统,用于将该有图案的光束投影至该基材 的一目标部份; 特征在于该装置尚包括用于控制映像之构件,以致 于将一第二图案映像至一具有一第一图案的基材 时,能减少该二基材支撑架间的差异效应。 2.如申请专利范围第1项之装置,其中在使用期间, 将复数个基材中由该第一基材支撑架所支撑的一 基材映像,而该复数个基材中的另一基材则为该第 二基材支撑架所支撑。 3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中用于控制 映像之该构件包括构件,用于确保一基材将使用该 二基材支撑架中相同的该支撑架将第二图案映像, 其中该第一图案已映像于该基材上。 4.如申请专利范围第1或2项之装置,其中用于控制 映像之该构件包括用于调整该映像之构件,以说明 该基材支撑架间的差异。 5.如申请专利范围第1或2项之装置,尚包括用于检 验一基材之辨识构件,以便在映像前决定基材识别 资讯。 6.如申请专利范围第5项之装置,其中该辨识构件包 括该装置之一对准系统。 7.如申请专利范围第5项之装置,其中该辨识构件包 括至少一条码读取器、一机器视觉系统、一视讯 照相机、一显微镜及其组合中之一。 8.如申请专利范围第1或2项之装置,尚包括构件,用 于从该微影投影装置以外的一来源接收基材识别 资讯。 9.如申请专利范围第1或2项之装置,尚包括储存构 件,被建构成能将基材识别资讯与相关的基材支撑 架资讯一起储存。 10.如申请专利范围第5项之装置,其中该基材识别 资讯包括有关一批基材中该第一基材的资讯。 11.如申请专利范围第1或2项之装置,尚包括用于接 收指令之构件,将该第二图案映像至该基材上时, 该指令指示必须使用哪一个基材支撑架;或指示如 何调整该映像,以说明该基材支撑架间的差异。 12.一种微影投影方法,包括以下步骤: 提供一至少部份被一层感光材料所覆盖的基材,该 基材位于一微影装置的一第一基材支撑架上,该微 影装置具有至少第一和第二基材支撑架; 使用一辐射光系统提供一投影辐射光束; 使用定出图案构件,使得该投影光束的横断面具有 一图案; 将该具有图案的辐射光束投影至该层感光材料的 一目标部份上,以映像一第一图案; 其特征在于: 将一第二图案映像至该基材上;及 控制该第二图案的映像,以减少该二基材支撑架间 的差异效应。 13.如申请专利范围第12项之方法,尚包括: 将一第一图案和一第二图案映像至由该第二基材 支撑架所支撑的一第二基材上; 控制该第二图案至该第二基材上的映像,以减少该 二基材支撑架间的差异效应。 14.如申请专利范围第12或13项之方法,其中该控制 尚包括确保于该基材被架在该第一基材支撑架上 时,该第二图案仍能被映像至该基材上。 15.如申请专利范围第12或13项之方法,其中该控制 尚包括映像该第二图案前先检查该基材的识别。 16.如申请专利范围第15项之方法,其中使用该已检 查过的识别,以决定该基材曾在哪一个基材支撑架 上被映像过。 17.如申请专利范围第16项之方法,其中在该决定之 后,该映像尚包括以下其中之一: 将该基材放置在之前曾在上面被映像过的该基材 支撑架上,及 调整该映像,以说明该第一和第二基材支撑架间的 差异。 18.如申请专利范围第15项之方法,其中该检查尚包 括检查所储存的识别资讯。 19.如申请专利范围第15项之方法,其中该检查尚包 括决定该基材之前曾在该二基材支撑架中的哪一 个支撑架上被加工,并将该基材放在该基材支撑架 上加工。 20.如申请专利范围第15项之方法,其中该检查尚包 括检查在该基材上的一实体辨识记号。 21.如申请专利范围第20项之方法,其中该实体辨识 记号包括至少一条码,字母数字字元,一或多个符 号及其组合。 22.如申请专利范围第20项之方法,其中该实体辨识 记号包括一对具有一预定距离的对准记号。 23.如申请专利范围第15项之方法,其中该确保尚包 括将一批要被加工的基材排序,以致于每一基材依 序与一之前曾在其上被加工过的个别的该基材支 撑架相关连。 24.如申请专利范围第14项之方法,其中该控制尚包 括于该基材被架在该第二基材支撑架上时,将该第 二图案映像至该基材上;并调整该映像,以说明该 第一和第二基材支撑架问的差异。 25.如申请专利范围第24项之方法,其中该调整系根 据一组储存参数来执行,该参数描述该第一和第二 基材支撑架间的差异特征。 26.一种决定一基材曾在复数个基材支撑架中的哪 一个支撑架上被映像过的方法,包括: 在该基材的一区域上映像至少一对对准记号,不包 括一微电路图案,该对对准记号彼此间隔一距离, 该距离对应该复数个基材支撑架中一特别的支撑 架; 在一后续的映像制程期间,测量该距离;及 将该距离与该复数个基材支撑架中一特别的基材 支撑架相关连。 27.一种基材,包括: 至少一对对准特色,该对对准特色彼此间隔一距离 ,该距离对应一复数个基材支撑架中一特别的支撑 架,以致于一旦检验该距离,该基材可能与该复数 个基材支撑架中该特别的一个支撑架相关连。 图式简单说明: 图1描述如本发明一具体实施例之微影投影装置; 图2为如本发明一具体实施例之双阶段微影投影装 置的概要图; 图3图示如本发明一具体实施例之可供使用的一批 已排序的基材概要图;及 图4图示如本发明数个具体实施例之一具有辨识记 号的晶圆概要图。 |
