| 主权项 |
1.一种面光源的光均匀元件,系包含有: 一上出光面,系形成有一非平面折射结构;及 一下入光面,系形成有一非平面折射结构。 2.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一连续凹折射 结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一连续凹折射 结构。 3.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一不连续凹折 射结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一连续凹折射 结构。 4.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一连续凹折射 结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一不连续凹折 射结构。 5.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一不连续凹折 射结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一不连续凹折 射结构。 6.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一连续凸折射 结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一连续凸折射 结构。 7.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一不连续凸折 射结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一连续凸折射 结构。 8.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一连续凸折射 结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一不连续凸折 射结构。 9.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件, 其中: 该上出光面的非平面折射结构系为一不连续凸折 射结构;及 该下入光面的非平面折射结构系为一不连续凸折 射结构。 10.如申请专利范围第2至5项中任一项所述面托源 的光均匀元件,该上出光面及下入光面的凹折射结 构系为V形、半圆柱、半圆球或四角锥的凹槽形状 。 11.如申请专利范围第6至9项中任一项所述面光源 的光均匀元件,该上出光面及下入光面的凸折射结 构系为锯齿、半圆柱、半圆球、四角锥的凸块形 状。 12.如申请专利范围第10项所述面光源的光均匀元 件,该上出光面及下入光面之凹折射结构的凹槽尺 寸为规则。 13.如申请专利范围第11项所述面光源的光均匀元 件,该上出光面及下入光面之凸折射结构的凸块形 状为规则。 14.如申请专利范围第10项所述面光源的光均匀元 件,该上出光面及下入光面之凹折射结构的凹槽尺 寸为不规则。 15.如申请专利范围第11项所述面光源的光均匀元 件,该上出光面及下入光面之凸折射结构的凸块形 状为不规则。 16.如申请专利范围第1项所述面光源的光均匀元件 ,该上出光面及下入光面的非平面折射结构为一粗 糙面。 图式简单说明: 第一图:系本创作第一较佳实施例的光扩散板设置 于一直下式背光模组的侧视图。 第二图:系本创作第二较佳实施例的立体剖面图。 第三图:系本创作第三较佳实施例的立体剖面图。 第四图:系本创作第四较佳实施例的立体剖面图。 第五图:系本创作第五较佳实施例的立体剖面图。 第六图:系本创作第六较佳实施例的立体剖面图。 第七图:系本创作第七较佳实施例的立体剖面图。 第八图:系本创作第八较佳实施例的立体剖面图。 第九图:系本创作第九较佳实施例的立体剖面图。 第十图:系本创作第十较佳实施例的立体剖面图。 |
