发明名称 METHOD OF MANUFACTURING ON P/P+ EPITAXIAL WAFERS BY MEANS OF LOW ENERGY ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号 KR100579217(B1) 申请公布日期 2006.05.11
申请号 KR19990046672 申请日期 1999.10.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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