发明名称 System und Verfahren zum Zuführen von Vorstufengasen zu einer Implantationsanlage
摘要 Es wird ein verbessertes Zufuhrsystem für eine Ionenquelle einer Ionenimplantationsanlage und ein Verfahren zum Betreiben derselben bereitgestellt. Durch Verwenden eines Puffervolumens zwischen einer SDS-Gasflasche und der Ionenquelle wird die Stabilität der Gasströmung zu der Ionenquelle deutliche verbessert, wobei gleichzeitig nahezu der gesamte Gasinhalt der Gasflasche während des Betriebs der Ionenimplantationsanlage verfügbar ist.
申请公布号 DE102004052580(A1) 申请公布日期 2006.05.11
申请号 DE200410052580 申请日期 2004.10.29
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 发明人 KRUEGER, CHRISTIAN;KOCIS, RASTISLAV
分类号 H01J37/317;H01L21/265 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
主权项
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