发明名称 |
System und Verfahren zum Zuführen von Vorstufengasen zu einer Implantationsanlage |
摘要 |
Es wird ein verbessertes Zufuhrsystem für eine Ionenquelle einer Ionenimplantationsanlage und ein Verfahren zum Betreiben derselben bereitgestellt. Durch Verwenden eines Puffervolumens zwischen einer SDS-Gasflasche und der Ionenquelle wird die Stabilität der Gasströmung zu der Ionenquelle deutliche verbessert, wobei gleichzeitig nahezu der gesamte Gasinhalt der Gasflasche während des Betriebs der Ionenimplantationsanlage verfügbar ist.
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申请公布号 |
DE102004052580(A1) |
申请公布日期 |
2006.05.11 |
申请号 |
DE200410052580 |
申请日期 |
2004.10.29 |
申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. |
发明人 |
KRUEGER, CHRISTIAN;KOCIS, RASTISLAV |
分类号 |
H01J37/317;H01L21/265 |
主分类号 |
H01J37/317 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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