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发明名称
Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
摘要
申请公布号
DE60209835(D1)
申请公布日期
2006.05.11
申请号
DE2002609835
申请日期
2002.07.30
申请人
CANON SALES CO. INC.;SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY, CO
发明人
SHIOYA;NISHIMOTO;SUZUKI;OHGAWARA;MAEDA
分类号
H01L21/318;H01L21/31;H01L21/3205;H01L21/321;H01L21/768;H01L23/52;H01L23/532
主分类号
H01L21/318
代理机构
代理人
主权项
地址
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