Verfahren zum Herstellen einer elektrochemischen Schicht und für dieses Verfahren geeignete Beschichtungsanlage

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum elektrochemischen Beschichten, bei dem ein Substrat (14) während des Schichtbildungsprozesses mit einem Magnetfeld (23) beaufschlagt wird. Außerdem bezieht sich die Erfindung auf eine elektrochemische Beschichtungsanlage. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass das Magnetfeld (23) an der zu beschichtenden Oberfläche (21) des Substrates (14) mit einer lokal veränderlichen Feldstärkeverteilung H(x) erzeugt wird, wodurch elektrische Feldlinien (24) im Elektrolyt auf die Bereiche hoher magnetischer Feldstärke konzentriert werden. Hierdurch wird in diesen Bereichen das Schichtwachstum einer Schicht (22) erhöht, weswegen sich beispielsweise ein welliges Profil (27) ohne Nachbearbeitungsschritte erzeugen lässt. Diese wellige Oberfläche verringert bei geeigneten Abmessungen vorteilhaft den Strömungswiderstand der Schichtoberfläche (27), weswegen sich eine solche Beschichtung beispielsweise für strömungsoptimierte Turbinenschaufeln eignet.