发明名称 DIFFUSION FURNACE IN SEMICONDUCTOR WAFER FABRICATION
摘要
申请公布号 KR20060035818(A) 申请公布日期 2006.04.27
申请号 KR20040084151 申请日期 2004.10.20
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, JUNG NAM
分类号 H01L21/22 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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