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发明名称
化学微缩制程应用于微奈米线路制造之方法
摘要
本发明系关于一种化学微缩制程应用于微奈米线路制造之方法,其系配合化学微缩制程予以克服曝光波长之尺寸限制,俾以制造出小于曝光波长之尺寸,其制作上先经沈积、显影、电浆蚀刻后,再利用化学微缩剂使经过电浆蚀刻后之金属线路微缩至小于曝光波长之尺寸,俾以产生微奈米线路者。
申请公布号
TW200616033
申请公布日期
2006.05.16
申请号
TW093134047
申请日期
2004.11.09
申请人
远东技术学院
发明人
丁永强;施锡龙
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
李文祯
主权项
地址
台南县新市乡中华路49号
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