| 摘要 |
本发明提供一种基板清洗装置，包含清洗装置10，该清洗装置包含抵接构件14，其施压抵靠着清洗构件2，以清洁该清洗构件2；驱动控制手段21，其用于可控制地驱动该抵接构件14；及清洗槽12，其容置有清洗液体11，且允许以该清洗液体11充满该清洗构件2及该抵接构件14间之抵接部份。该基板清洗装置亦包含影像撷取手段16，其撷取该清洗构件2之表面影像2；以及影像处理手段17。监测该清洗构件2之表面状态以判断该清洗构件2之更换时机。该基板清洗装置复包含测量手段13，其测量该清洗槽12的清洗液体11中之微粒数目及／或成份浓度。藉着该测量手段13测量之结果系送回至驱动控制手段21，以藉此防止该清洗构件2之污染。 |
