| 摘要 |
本发明目的在于提供可实现曝光工程的补正的单片化与高精度化之两者的重合检查系统。因此，具备：组装于由搬送容器14取出的基板10A至少经过曝光工程与显像工程回收到搬送容器为止的路径，以复数点进行经显像工程后的基板的重合检查的第1检查装置11；和配置在前述路径之外，经过第1检查装置回收到搬送容器后的基板改由该搬送容器取出时，以比第1检查装置还多的点进行该基板的重合检查的第2检查装置12；和依据第1检查装置所成检查结果与第2检查装置所成检查结果，产生曝光工程的补正用资料的产生手段(上述检查装置11、12的影像处理部)。 |
