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发明名称
化学增强型正型光阻组成物
摘要
本发明提供一种化学增强型正型光阻组成物,此光阻组成物系,在一个基板上形成积体电路与液晶显示部份之基板制造用化学增强型正型光阻组成物;其特征为,将全酚性羟基之至少一部份被酸离解性溶解抑制基保护之酚醛清漆树脂(A-1)、全酚性羟基之至少一部份被酸离解性溶解抑制基保护之聚羟基苯乙烯树脂(A-2)、及藉由照射放射线产生酸之酸产生剂(B),溶解于有机溶剂所成。
申请公布号
TW200617601
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094129785
申请日期
2005.08.30
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
馆俊聪;宫城贤;铃木贵子
分类号
G03F7/039
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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