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发明名称
发光二极体阵列之制造方法
摘要
本发明揭露一种阵列型(array–type)发光二极体,特别是有关阵列型发光二极体之发光单元先以绝缘保护层包覆后,再以金属包覆层形成于发光单元之侧壁的绝缘保护层上。藉着金属包覆将侧面发出之杂散光遮蔽,从而改善每一个发光单元的光形,提高每一个光点的监别率,因此可以改善发光阵列的成像品质。
申请公布号
TW200618328
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW093135676
申请日期
2004.11.19
申请人
国联光电科技股份有限公司
发明人
邓绍猷;谢政璋
分类号
H01L33/00
主分类号
H01L33/00
代理机构
代理人
李长铭
主权项
地址
新竹市科学园区力行路10号9楼
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