发明名称 发光二极体阵列之制造方法
摘要 本发明揭露一种阵列型(array–type)发光二极体,特别是有关阵列型发光二极体之发光单元先以绝缘保护层包覆后,再以金属包覆层形成于发光单元之侧壁的绝缘保护层上。藉着金属包覆将侧面发出之杂散光遮蔽,从而改善每一个发光单元的光形,提高每一个光点的监别率,因此可以改善发光阵列的成像品质。
申请公布号 TW200618328 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW093135676 申请日期 2004.11.19
申请人 国联光电科技股份有限公司 发明人 邓绍猷;谢政璋
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 李长铭
主权项
地址 新竹市科学园区力行路10号9楼