磁控管涂层式基板之制造方法及磁控管溅镀源

摘要

本发明涉及一种磁控管涂层式基板之制造方法，其中沿着靶而在靶之远离基板之背面上存在着一种磁铁配置，藉此而沿着靶之溅镀面以产生隧道形式之磁控管磁场之至少一闭合之回路，其中为了对溅镀速率分布进行调整，则磁铁配置之一部份至靶背面之距离须改变。