发明名称 电浆产生方法
摘要 本发明揭露一种电浆产生方法,适用于一电浆产生装置中。此电浆产生装置至少包括一外电极与置于外电极内部之一内电极。此方法至少包括如下步骤。首先,导入一常压含氮气体至电浆产生装置中,以当作工作气体。接着,对电浆产生装置施加一电压。内电极便会产生一电浆柱,游离常压含氮气体。
申请公布号 TWI298987 申请公布日期 2008.07.11
申请号 TW093127325 申请日期 2004.09.09
申请人 馗鼎奈米科技股份有限公司 发明人 徐逸明;王亮钧;李志勇;陈彦政;陈俊钦;李家欣;王俊尧;梁国超
分类号 H05H1/00(200601AFI20080523VHTW) 主分类号 H05H1/00(200601AFI20080523VHTW)
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 1.一种电浆产生方法,适用于一电浆产生装置中,该 电浆产生装置至少包括一外电极与置于该外电极 内部之一内电极,该方法至少包括: 导入一常压含氮气体至该电浆产生装置中,其中该 常压含氮气体中之氮气含量大于80%; 对该电浆产生装置施加一电压;以及 该内电极产生一电浆柱,游离该常压含氮气体。 2.如申请专利范围第1项所述之电浆产生方法,其中 该常压含氮气体中之氮气的含量较佳是大于或等 于85%,且小于100%。 3.如申请专利范围第1项所述之电浆产生方法,其中 该常压含氮气体中可包括0%至15%的其他气体,其他 气体可选自于由氧气(O2)、水气(H2O)、一氧化二氮( N2O)、氦气、氩气所组成之一族群。 4.如申请专利范围第1项所述之电浆产生方法,其中 该对该电浆产生装置施加一电压之步骤可包括将 该外电极接地,并对该内电极施加一交流电压。 5.如申请专利范围第1项所述之电浆产生方法,其中 该导入该常压含氮气体之步骤系以旋涡流动方式 导入该常压含氮气体。 6.一种电浆产生方法,该方法至少包括: 提供一外电极,该外电极具有一腔室; 提供一内电极,该内电极位于该腔室内; 导入一常压氮气至该腔室内; 对该内电极施加一电压;以及 产生一电浆柱于该内电极之前端与该外电极之末 端开口之间,可游离该常压氮气。 7.如申请专利范围第6项所述之电浆产生方法,其中 该常压氮气中之氮气的含量较佳是大于或等于85%, 且小于100%。 8.如申请专利范围第6项所述之电浆产生方法,其中 该常压氮气中可包括0%至15%的其他气体,其他气体 可选自于由氧气(O2)、水气(H2O)、一氧化二氮(N2O) 、氦气、氩气所组成之一族群。 9.如申请专利范围第6项所述之电浆产生方法,其中 该对该内电极施加一电压之步骤可包括将该外电 极接地。 10.如申请专利范围第9项所述之电浆产生方法,其 中该电压为一交流电压。 11.如申请专利范围第6项所述之电浆产生方法,其 中该导入该常压氮气之步骤系以旋涡流动方式导 入该常压氮气。 图式简单说明: 第1图系绘示电浆炬之构造示意图。 第2a图系绘示在500瓦电浆功率下,工作气体为氮气 时,在电浆喷嘴外2公厘的位置所量测到的电浆发 射光谱图。 第2b图系绘示在500瓦电浆功率下,工作气体为空气 时,在电浆喷嘴外2公厘的位置所量测到的电浆发 射光谱图。 第3a图系绘示在500瓦电浆功率下,工作气体为氮气 时,在电浆喷嘴外5公厘的位置所量测到的电浆发 射光谱图。 第3b图系绘示在500瓦电浆功率下,工作气体为空气 时,在电浆喷嘴外5公厘的位置所量测到的电浆发 射光谱图。 第4图系绘示背景(未点热之电浆)之光谱图。
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