发明名称 双向枢纽结构
摘要 本创作系揭露一种双向枢纽结构。双向枢纽结构中包含有水平转轴组、旋转转换件及垂直转轴组,由旋转转换件枢接水平转轴组及垂直转轴组。且,垂直转轴组包括有承座、旋转限位件、稳定件、弹性元件及锁固件。其中,旋转限位件之限位凸点及限位弧与承座上之导轨及限位凸部相配合,以限制垂直转轴组的旋转角度。稳定件之定位凸点及稳定凸部与承座之定位孔配合及维持对磨稳定度。藉由本创作承座、旋转限位件及稳定件之设计,达成对垂直转轴组之定位及限位功效。
申请公布号 TWM336650 申请公布日期 2008.07.11
申请号 TW096219849 申请日期 2007.11.23
申请人 晟铭电子科技股份有限公司 发明人 张仰之
分类号 H05K7/00(200601AFI20080519VHTW) 主分类号 H05K7/00(200601AFI20080519VHTW)
代理机构 代理人 王信祝 台北县中和市中正路880号4楼之3;杨长峰 台北县中和市中正路880号4楼之3
主权项 1.一种双向枢纽结构,至少包含: 至少一水平转轴组; 一旋转转换件,系具有至少一卡合部,及枢接该水 平转轴组之至少一固定部;以及 一垂直转轴组,系具有一孔洞与该旋转转换件套合 ,该垂直转轴组至少包括; 一承座,于该孔洞之周缘设有至少一导轨,及相对 于孔洞之周缘的另一侧设有至少一限位凸部,该承 座系具有至少一定位孔; 一旋转限位件,系具有至少一第一固定凸部、至少 一限位凸点及至少一限位弧,该第一固定凸部系与 该旋转转换件之该卡合部卡合,该限位凸点系于该 承座之该导轨中滑动,该限位弧系配合该承座之该 限位凸部; 一稳定件,系具有至少一第二固定凸部、至少一定 位凸点及至少一稳定凸部,该第二固定凸部系与该 旋转转换件之该卡合部卡合,该定位凸点系与该承 座之该定位孔配合,该稳定凸部系靠合于该承座使 该稳定件平稳的与该承座对磨; 一弹性元件,系提供该稳定件之一弹性裕度;以及 一锁固件,系具有至少一螺丝及一盖板,该螺丝系 将该盖板与该旋转转换件锁固,使该旋转转换件与 该垂直转轴组结合为一体。 2.如申请专利范围第1项所述之双向枢纽结构,其中 该稳定件及该弹片之间更具有一辅助件,该辅助件 上具有至少一第三固定凸部,该第三固定凸部系与 该旋转转换件之该卡合部卡合。 3.如申请专利范围第1项所述之双向枢纽结构,其中 该旋转限位件系具有复数个凹槽,系用于容置一润 滑剂使该旋转限位件转动更顺畅。 4.如申请专利范围第1项所述之双向枢纽结构,其中 该承座之材质系为一耐磨之金属材质。 5.如申请专利范围第4项所述之双向枢纽结构,其中 该耐磨之金属材质系为一模具钢。 6.如申请专利范围第1项所述之双向枢纽结构,其中 该弹性元件系为至少一弹片。 7.如申请专利范围第1项所述之双向枢纽结构,其中 该弹性元件上具有至少一第四固定凸部,该第四固 定凸部系与该旋转转换件之该卡合部卡合。 图式简单说明: 第一图系显示本创作之一双向枢纽结构之分解图; 第二图系显示本创作之一双向枢纽结构之旋转转 换件及垂直转轴组之第一视角分解图; 第三图系显示本创作之一双向枢纽结构之旋转转 换件及垂直转轴组之第二视角分解图; 第四图系显示本创作之另一双向枢纽结构之旋转 转换件及垂直转轴组之第二视角分解图; 第五图系显示本创作之再一双向枢纽结构之分解 图; 第六图系显示本创作之再一双向枢纽结构之旋转 转换件及垂直转轴组之第一视角分解图;以及 第七图系显示本创作之再一双向枢纽结构之旋转 转换件及垂直转轴组之第二视角分解图。
地址 台北市内湖区民权东路6段27号2楼
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