发明名称 |
能量穴灸碇之结构 |
摘要 |
一种能量穴灸碳之结构,尤指一种由带有能量之陶瓷或能量矿石材料所制成之穴灸碇,该等穴灸碇系以成份均衡之能量陶瓷或能量矿石粉末所制成之碇体,且于该碇体之至少一侧面上设有突点或依人体外表曲线而设之曲面,以利于简便而准确地对应压贴在拟作用之穴位;再者,利用上述粉末成份之调配,乃可制作出能量値可稳定控制之穴灸碇,更方便于针对不同经络穴道或部位,选择相对适当之碇体来产生强弱不同之刺激及导引作用;以改善传统穴灸方式所存在之人体伤害性或作用値难量化之缺失者。 |
申请公布号 |
TWM336043 |
申请公布日期 |
2008.07.11 |
申请号 |
TW097202132 |
申请日期 |
2008.01.31 |
申请人 |
徐满祥 |
发明人 |
徐满祥 |
分类号 |
A61H39/06(200601AFI20080513VHTW) |
主分类号 |
A61H39/06(200601AFI20080513VHTW) |
代理机构 |
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代理人 |
陈恕琮 台北市中山区林森北路575号11楼之3 |
主权项 |
1.一种能量穴灸碇之结构,其系由带能量之陶瓷材 料或矿石粉末所制成之碇体,该碇体之至少一表面 设有一形成突出的压穴部位者。 2.依申请专利范围第1项所述之能量穴灸碇之结构, 其中之压穴部位系自碇体之一表面形成一半球面 浮突型式者。 3.依申请专利范围第2项所述之能量穴灸碇之结构, 其中之半球面浮突处设有一最高突部位。 4.依申请专利范围第1项所述之能量穴灸碇之结构, 其中之压穴部位系自碇体之一表面形成多阶渐缩 浮突面之型式者。 5.依申请专利范围第4项所述之能量穴灸碇之结构, 其中之多阶渐缩浮突面设有一最高突部位。 6.依申请专利范围第2或5项所述之能量穴灸碇之结 构,其中之最高突部位之中间设有小突点。 7.依申请专利范围第1项所述之能量穴灸碇之结构, 其中之压穴部位系自碇体之一表面形成一低高度 之内凹曲面者。 8.依申请专利范围第7项所述之能量穴灸碇之结构, 其中之内凹曲面中间设有小突点。 图式简单说明: 第1图系本创作第一种实施例之立体图。 第2-1图系第1图所示实施例之泻法施作状态示意图 。 第2-2图系第1图所示实施例之补法施作状态示意图 。 第3图系本创作第二种实施例之立体图。 第4-1图系第3图所示实施例之泻法施作状态示意图 。 第4-2图系第3图所示实施例之补法施作状态示意图 。 第5图系本创作第三种实施例之立体图。 第6-1图系本创作第1图所示实施例之泻法施作状态 示意图。 第6-2图系本创作第1图所示实施例之补法施作状态 示意图。 |
地址 |
高雄县美浓镇中正路2段765号 |