| 摘要 |
提供可使具有多成分之例如液晶与有机EL等的平面显示器用之玻璃基板本身不析出结晶以及不使表面粗糙而加工之具有多成分之基板用之具有均一组成之微细加工表面处理液。其特征在于:在含有氟化氢酸以及氟化铵之同时,含有至少一种比氟化氢酸之酸解离常数还大之酸。系在含有氟化氢酸以及氟化铵之同时,含有至少一种比氟化氢酸之酸解离常数还大之酸之药剂,该比氟化氢酸之酸解离常数还大之酸的含有量为x,蚀刻玻璃基板之液温中该药水之对热矽氧化膜之蚀刻速率为f(x)[/min]时,该药水,在x=x1时有极大値f(x1),在x=x2(但是,x1<x2)时有极小値f(x2),其特征在于:在x>x1的范围中,含有比该氟化氢酸之酸解离常数还大之酸。 |
| 主权项 |
1.一种具有多成分之玻璃基板用的具有均一组成 之微细加工表面处理液,系在含有氟化氢酸以及氟 化铵之同时,还含有至少一种以上较氟化氢酸之酸 解离常数还大之酸之溶液, 其特征在于: 当该较氟化氢酸之酸解离常数还大之酸的含有量 为x[mol/kg]时,x的范围为1<x<5;以及 较氟化氢酸之酸解离常数还大的酸为HCl、HBr、HNO3 、H2SO4之任一种以上。 2.如申请专利范围第1项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,较氟化氢酸之酸解离常数还大的酸为无基酸, 可为一价或多价的酸。 3.如申请专利范围第1项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,包含重量%0.0001~1%之界面活性剂。 4.如申请专利范围第1项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,具有多成分之玻璃基板,系以矽酸为主成分,更 含有Al、Ba、Ca、Mg、Sb、Sr、Zr之任一种以上。 5.如申请专利范围第1至4项中之任一项所述之具有 多成分之玻璃基板用的具有均一组成之微细加工 表面处理液,其中,前述玻璃基板系平面显示器用 之玻璃基板。 6.如申请专利范围第1至4项中之任一项所述之具有 多成分之玻璃基板用的具有均一组成之微细加工 表面处理液,其中,氟化氢酸之含量在25mol/kg以下。 7.如申请专利范围第5项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,氟化氢酸之含量在25mol/kg以下。 8.如申请专利范围第1至4项中之任一项所述之具有 多成分之玻璃基板用的具有均一组成之微细加工 表面处理液,其中,氟化铵之含量在0.001 ~11mol/kg。 9.如申请专利范围第5项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,氟化铵之含量在0.001~11mol/kg。 10.如申请专利范围第6项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,氟化铵之含量在0.001~11mol/kg。 11.如申请专利范围第7项所述之具有多成分之玻璃 基板用的具有均一组成之微细加工表面处理液,其 中,氟化铵之含量在0.001~11mol/kg。 图式简单说明: 图1系表示较氟化氢酸之酸解离常数大之酸之含有 量与热氧化膜之蚀刻速率之关系之示意图表。 图2系表示Al成分之结晶析出浓度与酸添加量之关 系之示意图。 图3系表示Ba成分之结晶析出浓度与酸添加量之关 系之示意图。 图4系表示Ca成分之结晶析出浓度与酸添加量之关 系之示意图。 图5系表示Sr成分之结晶析出浓度与酸添加量之关 系之示意图。 |
