发明名称 发光装置
摘要 一种发光装置,主要系由一完成固晶打线的发光二极体模组,以及一预先制成的光学模组所组构而成,其中的光学模组系于一可透光的板材之上、下两平面,分别成型有可使光聚焦的聚光部,以及可使光散射的散射部,使组构后的发光二极体模组所产生的光,可被更有效率的呈现。
申请公布号 TWM336542 申请公布日期 2008.07.11
申请号 TW097203056 申请日期 2008.02.21
申请人 锺建兴;吴明昌 发明人 锺建兴;吴明昌
分类号 H01L51/50(200601AFI20080601VHTW) 主分类号 H01L51/50(200601AFI20080601VHTW)
代理机构 代理人
主权项 1.一种发光装置,包括: 一发光二极体模组,由一反射座以及一发光二极体 晶片组构而成,该发光二极体晶片系受固定于该反 射座中,该反射座外部系成型有一组电极;以及 一光学模组,组设于该反射座上方,其系具有一可 透光的基板,该基板的一平面成型有一散射部,另 一平面则成型有一聚光部;以及 该发光二极体模组与该光学模组完成组设后,该光 学模组的该聚光部,系对于该发光二极体模组的该 发光二极体晶片上方。 2.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 发光二极体晶片系以一组金属导线与该反射部完 成电性导通。 3.如申请专利范围第2项所述的发光装置,其中,该 发光二极体晶片上方系覆盖有一萤光层。 4.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 发光二极体晶片系以一组电极与该反射座完成电 性导通。 5.如申请专利范围第4项所述的发光装置,其中,该 发光二极体晶片上方系覆盖有一萤光层。 6.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 光学模组的该聚光部周围,系成形有一第一导光部 。 7.如申请专利范围第6项所述的发光装置,其中,该 第一导光部呈连续锯齿状。 8.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 光学模组的该散射部部周围,系成形有一第二导光 部。 9.如申请专利范围第8项所述的发光装置,其中,该 第二导光部呈连续锯齿状。 10.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 光学模组的该聚光部系直接覆盖于该发光二极体 晶片上方。 11.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,另 一光学模组系以一环圈状的环墙部,叠设于该光学 模组的上方。 12.如申请专利范围第11项所述的发光装置,其中,该 环墙部为不可透光。 13.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 散射部上涂布有一层萤光层。 14.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 反射座由矽材料制成。 15.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 反射座由由陶瓷材料制成。 16.如申请专利范围第1项所述的发光装置,其中,该 反射座系由一金属镀上一绝缘层。 图式简单说明: 第1图,为一种习知的发光装置。 第2图,为一另种习知的发光装置。 第3图,为本创作发光装置的剖视图。 第4图,为组构完成的发光装置之侧视图。 第5图,为本创作的一较佳实施例(一)。 第6图,为本创作的另一较佳实施例(二)。 第7图,为本创作的另一较佳实施例(三)。 第8图,为本创作的另一较佳实施例(四)。 第9图,为本创作的另一较佳实施例(五)。 第10图,为本创作的另一较佳实施例(六)。
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