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Ein Verfahren zur Herstellung eines Bildsensors, das Schritte des Ausbildens eines ersten Isolationsbereichs und eines ersten Justierungs-Schlüssels in einem Halbleitersubstrat unter Verwendung eines ersten Masken-Musters als Maske; und dann Ausbilden einer ersten Fotodiode im Halbleitersubstrat unter Verwendung eines zweiten Masken-Musters als Maske umfassen kann.
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