| 发明名称 | 用于晶圆边缘曝光的光栅 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种用于晶圆边缘曝光的光栅。采用现有的光栅结构进行晶圆边缘曝光，存在曝光时间较长，产量低的问题。本实用新型的光栅具有一透光的光栅图形，该光栅图形是一扇环，其侧边由两条同心圆弧构成。在晶圆边缘曝光过程中，所述光栅图形曲率半径较大的一条圆弧在晶圆上的投影落在晶圆的边缘上，另一条圆弧的投影落在晶圆边缘的内侧，光栅图形的长度为3～8毫米。采用本实用新型的光栅，在不改变其他参数且确保晶圆边缘曝光制程达到能量和宽度要求的同时，可有效缩短曝光时间，从而提高产量。 | ||
| 申请公布号 | CN201083962Y | 申请公布日期 | 2008.07.09 |
| 申请号 | CN200720070546.X | 申请日期 | 2007.06.01 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 李德君 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G02B5/18(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
| 主权项 | 1.一种用于晶圆边缘曝光的光栅，其具有一透光的光栅图形，其特征在于：所述的光栅图形是一扇环，其侧边由两条同心圆弧构成。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||