发明名称 一种新型CrAlTi(Y)N薄膜及其制备方法
摘要 本发明涉及一种新型的CrAlTi(Y)N薄膜及其制备方法。通过采用Al-Y合金靶材,获得了具有生产效率高、优良结合强度的CrAlTi(Y)N薄膜,其含Y合金靶材成分为(按重量份数比):Al-Y合金靶(0<Y≤9.5%,其余为Al),靶材中剩余部分为不可避免的杂质组成;一种新型CrAlTi(Y)N薄膜的制备方法,包括以下步骤:a)进行Al-Y合金靶的配制:采用原料为含Al≥99.9%的纯Al、稀土Y,通过高温熔制备Al-Y合金靶材或粉末冶金制备Al-Y合金靶材,并且使靶材中稀土Y含量满足0<Y≤9.5%;b)采用磁控溅射制备新型CrAlTi(Y)N薄膜。该薄膜提高了其生产效率和结合强度。
申请公布号 CN101215690A 申请公布日期 2008.07.09
申请号 CN200810050270.8 申请日期 2008.01.21
申请人 吉林大学 发明人 刘耀辉;刘兆政;朱先勇
分类号 C23C14/35(2006.01) 主分类号 C23C14/35(2006.01)
代理机构 长春吉大专利代理有限责任公司 代理人 朱世林
主权项 1.一种新型CrAlTi(Y)N薄膜,其特征在于靶材成分按重量份数比为:Cr靶:含Cr≥99.9%,Ti靶:含Ti≥99.9%,Al-Y合金靶:0<Y≤9.5%,其余为Al,靶材中剩余部分为不可避免的杂质组成。
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