发明名称 | 一种新型CrAlTi(Y)N薄膜及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种新型的CrAlTi(Y)N薄膜及其制备方法。通过采用Al-Y合金靶材,获得了具有生产效率高、优良结合强度的CrAlTi(Y)N薄膜,其含Y合金靶材成分为(按重量份数比):Al-Y合金靶(0<Y≤9.5%,其余为Al),靶材中剩余部分为不可避免的杂质组成;一种新型CrAlTi(Y)N薄膜的制备方法,包括以下步骤:a)进行Al-Y合金靶的配制:采用原料为含Al≥99.9%的纯Al、稀土Y,通过高温熔制备Al-Y合金靶材或粉末冶金制备Al-Y合金靶材,并且使靶材中稀土Y含量满足0<Y≤9.5%;b)采用磁控溅射制备新型CrAlTi(Y)N薄膜。该薄膜提高了其生产效率和结合强度。 | ||
申请公布号 | CN101215690A | 申请公布日期 | 2008.07.09 |
申请号 | CN200810050270.8 | 申请日期 | 2008.01.21 |
申请人 | 吉林大学 | 发明人 | 刘耀辉;刘兆政;朱先勇 |
分类号 | C23C14/35(2006.01) | 主分类号 | C23C14/35(2006.01) |
代理机构 | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人 | 朱世林 |
主权项 | 1.一种新型CrAlTi(Y)N薄膜,其特征在于靶材成分按重量份数比为:Cr靶:含Cr≥99.9%,Ti靶:含Ti≥99.9%,Al-Y合金靶:0<Y≤9.5%,其余为Al,靶材中剩余部分为不可避免的杂质组成。 | ||
地址 | 130012吉林省长春市前进大街2699号 |