具有对焦机构的直写光刻装置

摘要

本实用新型涉及光刻技术领域，解决了直写光刻装置存在的光学定位检测系统和曝光投影系统离轴对焦对不同镜头需要分别位移校正的问题。特点在于：在光学集光器和可编程的图形发生器之间增设对焦系统；其中对焦光学波长分束器位于光学集光器和可编程的图形发生器之间，对焦光学集光器和对焦光源依次位于对焦光学波长分束器上方。直接利用可变倍率的投影镜头来共轴投射对焦图形，实现不同镜头的共轴对焦，避免了离轴对焦对不同镜头所需要的分别位移校正过程，提高效率，同时减小了离轴对焦装置的成本。实现了对于投影镜头转换过程引起的焦平面变化的实时校正，并且实现了对晶片上已有图形的实时对位检测。

主权项

1.具有对焦机构的直写光刻装置，包括光源、光学集光系统、投影光学系统、镜头转换机构和光学定位检测系统；其中，光学集光系统包括光学集光器和可编程的图形发生器，光源与光学集光器对应；投影光学系统包括透镜、或透镜组和两个以上的投影镜头，透镜、或透镜组对应位于可编程的图形发生器下方，两个以上的投影镜头位于镜头转换器上；光学定位检测系统包括光敏感探测器和检测透镜，检测透镜通过光学波长分束器与投影镜头对应；其特征在于：在光学集光器和可编程的图形发生器之间设有对焦系统；所述对焦系统包括对焦光源、对焦光学集光器和对焦光学波长分束器，其中对焦光学波长分束器位于光学集光器和可编程的图形发生器之间，对焦光学集光器和对焦光源依次位于对焦光学波长分束器上方。