发明名称 制备柱状晶紧密排列PVD轴瓦的方法
摘要 一种制备柱状晶紧密排列PVD轴瓦的方法,本发明在轴瓦上溅射镍栅层后,首先在真空熔炉中熔炼成块状合金,然后,挤压成形,冷却后,装配成靶材;将铝合金靶材和轴瓦基底装入溅射舱,工作气体为氩气,将铝合金靶材和轴瓦基底装入溅射舱,工作气体为氩气,调节溅射舱的溅射气压为0.4~1.2Pa,基体温度为40~120℃,在溅射减摩层1~2小时后,将其基体的伴随负偏压为-100~-1000V。用EVO40型扫描电子显微镜测膜层截面(或断口)的微观形貌,呈现出紧密、均匀排列的柱状晶形,并且该柱状晶的轴线应与基体基本垂直,这种具有柱状晶减摩层的PVD轴瓦,明显地提高了其耐磨性和抗疲劳的强度。
申请公布号 CN101215687A 申请公布日期 2008.07.09
申请号 CN200710093217.1 申请日期 2007.12.27
申请人 重庆跃进机械厂 发明人 冀庆康;吴文俊;张永红
分类号 C23C14/35(2006.01);C23C14/16(2006.01);C23C14/54(2006.01) 主分类号 C23C14/35(2006.01)
代理机构 重庆市前沿专利事务所 代理人 郭云
主权项 1.一种制备柱状晶紧密排列PVD轴瓦的方法,包括以下工艺步骤:将预处理过的轴瓦装入溅射舱,放入镍靶材和铝合金靶材,抽真空,在轴瓦的内表面溅射镍栅层(4),然后溅射铝合金减摩层(6),以及后续处理,其特征在于:所述溅射铝合金减摩层(6)的工艺条件如下:先制备铝合金靶材,该铝合金靶材中纯锡、纯铜及纯铝的重量百分比为16%~25%∶0.3%~3%∶83.7%~72%;再溅射铝合金减摩层(6),工作气体为氩气,调节溅射舱的溅射气压为0.4~1.2Pa,基体温度为40~120℃,在溅射减摩层1~2小时后,调整基体的负偏压为-100~-1000V。
地址 402160重庆市永川区化工路1号