发明名称 |
衬底注入方法以及实施该方法的离子注入器 |
摘要 |
注入器提供对衬底的相对于注入射束的二维扫描,使得射束在衬底上画出扫描线的栅格。在离开衬底的转折点对射束电流进行测量,并且电流值被用来控制随后的快速扫描速度,以补偿射束电流的任何变化对慢速扫描方向上的剂量均匀性的影响。该扫描可以产生不相交的、均匀间隔的平行扫描线的栅格,并且线之间的间距被选择以确保适当的剂量均匀性。 |
申请公布号 |
CN100401449C |
申请公布日期 |
2008.07.09 |
申请号 |
CN03808121.0 |
申请日期 |
2003.03.21 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
阿德里安·默雷尔;伯纳德·哈里森;彼得·爱德华兹;彼得·金德斯利;逆濑卓郎;马文·法利;佐藤修;杰弗里·吕丁 |
分类号 |
H01J37/317(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/317(2006.01) |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
柳春雷 |
主权项 |
1.一种对衬底注入的方法,包括以下步骤:a)产生具有预定射束通量的所希望原子核素的注入射束,b)沿与射束方向垂直的第一方向机械平移衬底,以产生射束在衬底上的至少一次通过,c)沿与射束方向和所述第一方向垂直的方向,机械往复移动衬底,以在每次所述通过期间产生射束在衬底上的多次扫描,由此,所述多次扫描在衬底上画出多条线的栅格,所述多条线的中点在所述第一方向上具有预定间隔,以及d)控制所述机械平移的步长,以选择栅格线的所述中点的所述间隔,使得所述栅格在所述第一方向上提供所述原子核素的被注入剂量在衬底上的理想的均匀性。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |