投影曝光装置

摘要

一种投影曝光装置，包括：一光罩台，保持描绘出应描绘图案的光罩；一光源，放射出包含g线、h线、i线及j线；一波长选择部，选择一光束，该光束包含从该光源放射的光线以既定的亮线组合而成；一照明光学系，以所选择的光照射上述光罩；一offner型投影光学系，将通过光罩的曝光光线投影至基板；一基板台座，具备吸附保持上述基板的吸附部而定位；一遮光部，遮蔽上述基板上的一部份。