画素结构的制作方法以及画素结构

摘要

一种画素结构的制作方法包括下列步骤。先提供一具有一画素区的基板。在基板上形成一第一金属层、一闸绝缘层与一半导体层后，藉由第一半调式或灰调式光罩将其图案化，形成一电晶体图案、一下层电容图案与一下层线路图案。接着，在依序形成覆盖上述三图案之一介电层与一电极层后，再将其图案化，以暴露出部分下层线路、下层电容与电晶体图案之一源极/汲极区，并在其上形成一第二金属层。然后，经由第二半调式或灰调式光罩图案化第二金属层与电极层，形成一上层线路、一源极/汲极图案与一上层电容图案，且部分电极层构成一画素电极。