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发明名称
投影曝光装置、光学构件及装置制造方法
摘要
一种投影式曝光装置100,藉一投影式光学系统PL将一原片6的图样影像投射到一基质7上。投影式曝光装置100具有一可固持原片6的原片平台5、一可固持基质7的基质平台8、及一测量单元。测量单元具有一包含有一光学单元17及一镜22的斐索干涉仪IF。光学单元17具有一可分裂一光束成为一参考光束及一测试光束的斐索表面。镜22可反射通过投影式光学系统PL的测试光束。光学单元17系安装在原片平台5上。镜22系安装在基质平台8上。
申请公布号
TW200844666
申请公布日期
2008.11.16
申请号
TW096137702
申请日期
2007.10.08
申请人
佳能股份有限公司
发明人
平井真一郎;大崎美纪;藏本福之
分类号
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);G02B27/18(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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