曝光设备及装置制造方法

摘要

本发明提供一种曝光设备，包含：照明光学系统，其配置来照亮光罩，该光罩配置在将以来自光源的光束照亮之表面上；投影光学系统，其配置来将该光罩的图案投射至基板上；及载台，其配置来驱动该基板。其中该照明光学系统包括光分布形成单元，其配置来沿着该光罩的扫瞄方向将梯形光强度分布形成在将被照亮的该表面上，以均匀化用于照明将被照亮的该表面上的每一点之光角分布，及当该载台驱动该基板藉此使该基板的法线相对于该投影光学系统的光轴而倾斜时，以该光分布形成单元所形成之该光强度分布及光角分布使该基板曝光。