发明名称 具有多个晶体管的半导体装置及其制造方法
摘要 本发明涉及一种具有多个晶体管的半导体装置及其制造方法,包括有下列步骤:提供一基板;形成一第一导电层于该基板上,其中该第一导电层包括有:一第一电极区;以及至少一第二电极区;其中该第一电极区电性连接该第二电极区中之一;形成一第一半导体层以覆盖该第二电极区;形成一介电层以覆盖该第一电极区和该第一半导体层;形成一第二半导体层于对应该第一电极区的该介电层上;以及形成一第二导电层,其中该第二导电层包括有:一第三电极区,对应该第二电极区而位于该介电层上;以及至少一第四电极区,对应该第一电极区而位于该第二半导体层上。本发明可大幅度降低引线孔的需求量,进而减少电子元件制造过程中的激光钻孔量,从而降低了生产成本。
申请公布号 CN100444353C 申请公布日期 2008.12.17
申请号 CN200510109058.0 申请日期 2005.10.17
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 裴静伟;贡振邦
分类号 H01L21/8238(2006.01);H01L27/092(2006.01) 主分类号 H01L21/8238(2006.01)
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人 梁挥;祁建国
主权项 1、一种具有多个晶体管的半导体装置的制造方法,其特征在于,包括有下列步骤:提供一基板;形成一第一导电层于该基板上,其中该第一导电层包括有:一第一电极区;以及至少一第二电极区;其中该第一电极区通过该第一导电层电性连接该第二电极区中之一;形成一第一半导体层以覆盖该第二电极区;形成一介电层以覆盖该第一电极区和该第一半导体层;形成一第二半导体层于对应该第一电极区的该介电层上;以及形成一第二导电层,其中该第二导电层包括有:一第三电极区,对应该第二电极区而位于该介电层上;以及至少一第四电极区,对应该第一电极区而位于该第二半导体层上,其中该第一和该第三电极区分别作为两个晶体管的栅极,且该第二和该第四电极区分别作为两个晶体管的源极/漏极。
地址 中国台湾新竹县