| 发明名称 | 曝光装置以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置，在投影光学系统与基片(P)之间的至少一部分用液体充满，经由投影光学系统和液体将图案像投影到基片(P)上，由此对基片(P)进行曝光，具备对投影光学系统与基片(P)之间的液体中的气泡进行检测的气泡检测器(20)。曝光装置在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光处理之际，能够抑制起因于液体中的气泡的图案像的劣化。 | ||
| 申请公布号 | CN100444315C | 申请公布日期 | 2008.12.17 |
| 申请号 | CN200380105420.6 | 申请日期 | 2003.12.09 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 水谷英夫;马込伸贵 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 曲瑞 |
| 主权项 | 1.一种经由液体将图案的像转印到基片上并对基片进行曝光的曝光装置，具备：将图案的像投影到基片的投影光学系统；以及具有将光投射到位于该投影光学系统与上述基片之间的上述液体上的投射系统和接受来自位于该投影光学系统与上述基片之间的上述液体的光的受光系统的气泡检测器，上述气泡检测器根据上述受光系统的输出对位于该投影光学系统与上述基片之间的液体中的气泡进行检测。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||