发明名称 |
通过等离子体增强的化学汽相淀积法沉积的聚合物防反射涂层 |
摘要 |
提供了一种用来向基片表面施涂聚合物防反射涂料的改进的方法以及所得的前体结构。概括地说,该方法包含用等离子体增强的化学汽相淀积(PECVD)法将聚合物沉积在基片表面上。最好的初始单体是4-氟苯乙烯、2,3,4,5,6-五氟苯乙烯和烯丙基五氟苯。PECVD法包含使单体经受足够的电流和压力,从而导致单体升华以形成蒸汽,然后通过施加电流将蒸汽变为等离子状态。随后,蒸发的单体在沉积室中的基片表面上聚合。本发明方法用来提供在具有超亚微米(0.25μm或更小)特征的大型表面基片上的高保形的防反射涂层。该方法提供了比常规汽相淀积(CVD)法更快的沉积速率,它对环境是友好的,并且是经济可行的。 |
申请公布号 |
CN100444306C |
申请公布日期 |
2008.12.17 |
申请号 |
CN01819133.9 |
申请日期 |
2001.06.12 |
申请人 |
布鲁尔科技公司 |
发明人 |
R·萨布尼斯;D·J·格雷罗 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);C23C16/513(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
项丹 |
主权项 |
1.一种形成制造集成电路所用的前体的方法,它包括以下步骤:提供一定量的单体和一块准备在其表面上施涂防反射涂层的基片,其中,所述单体选自2-甲氧基苯乙烯、3-甲氧基苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2-氟苯乙烯、3-氟苯乙烯、4-氟苯乙烯、2-溴苯乙烯、3-溴苯乙烯、4-溴苯乙烯、2-氯苯乙烯、3-氯苯乙烯、4-氯苯乙烯、2-硝基苯乙烯、3-硝基苯乙烯、4-硝基苯乙烯、3,5-二(三氟甲基)苯乙烯、反-2-氯-6-氟-β-硝基苯乙烯、十氟烯丙基苯、2,6-二氟苯乙烯、7-〔1-(4-氟苯基)-4-异丙基-2-苯基-1H-咪唑-5-基〕-5-羟基-3-氧代-反-6-庚酸乙酯、氟桂利嗪二盐酸化物、反-4-氟-β-硝基苯乙烯、β-硝基-4-(三氟甲氧基)苯乙烯、反-β-硝基-2-(三氟甲基)苯乙烯、反-β-硝基-3-(三氟甲基)苯乙烯、β-硝基-4-(三氟甲基)苯乙烯、反-2,3,4,5,6-五氟-β-硝基苯乙烯、反-1,1,1-三氟-4-(3-吲哚基)-3-丁烯-2-酮、α-(三氟甲基)苯乙烯、2-(三氟甲基)苯乙烯、3-(三氟甲基)苯乙烯、4-(三氟甲基)苯乙烯和3,3,3-三氟-1-(苯基磺酰基)-1-丙烯;通过向所述单体施加0.1-10安培的电流和50-200毫托的压力,使所述单体形成等离子体;在所述基片的表面上沉积所述等离子体单体,形成防反射涂层,其中,沉积在所述基片表面上的防反射涂层的厚度为<img file="C018191330002C1.GIF" wi="309" he="55" />向所述防反射涂层施加光致抗蚀剂层,生成电路前体。 |
地址 |
美国密苏里州,罗拉,部鲁道2401号 |