发明名称 LCOS像素单元器件结构
摘要 本实用新型提供一种LCOS像素单元器件结构,属于信息科学技术学科的微电子应用技术领域,特别是涉及一种硅基液晶显示器像素单元器件结构领域。新的LCOS像素单元器件结构设置在P型硅衬底上,具有N型阱(4)、PMOS管的栅极(3)、PMOS管的漏极(2)、PMOS管的源极(6)、PMOS管的背电极(1)、NMOS管的栅极(11)、NMOS管的漏极(9)、NMOS管的源极(6)、NMOS管的背电极(15)、电容器的上电极(24)、电容器的下电极(22),并包括第1层绝缘层覆(16)盖在P型硅衬底之上(13)、第2层绝缘层(18)放置在第1层绝缘层(16)之上、第3层绝缘层(19)放置在第2层绝缘层(18)之上、电容器的绝缘层(23)放置在第3层绝缘层(19)之上,电容器的绝缘层(23)厚度是50纳米~100纳米。本项专利降低了像素输入数据的损耗,提高了像素存贮电容器的单位电容值。
申请公布号 CN201167094Y 申请公布日期 2008.12.17
申请号 CN200820074046.8 申请日期 2008.03.13
申请人 天津力伟创科技有限公司 发明人 范义;代永平;范伟
分类号 H01L27/06(2006.01);H01L23/522(2006.01);G02F1/1362(2006.01) 主分类号 H01L27/06(2006.01)
代理机构 天津市杰盈专利代理有限公司 代理人 赵庆
主权项 1、LCOS像素单元器件结构,包括一个N型阱(4)、一个NMOS管和一个电容器,其特征在于,还包括一个PMOS管,所述的N型阱(4)、NMOS管和PMOS管置于P型硅衬底(13)上,P型硅衬底(13)之上覆盖第1层绝缘层(16),第2层绝缘层(18)设置在第1层绝缘层(16)之上,第3层绝缘层(19)设置在第2层绝缘层(18)之上,电容器设置在第3层绝缘层(19)之上。
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