发明名称 用于供应气体至一液体之装置
摘要 本发明系关于一种用于供应气体至一液体(1)之装置,尤其是用于浸没操作中所使用之薄膜设施之装置,其具有一气体供应通道(2)及在供应气体操作中排放一气流之至少一气体喷枪(3)。根据本发明,该气体喷枪(3)藉由至少一连接通道(5)而连接至该气体供应通道(2),该至少一连接通道(5)包含一在该气体喷枪(3)之侧上之第一孔口区域(8)及一在该气体供应通道(2)之侧上之第二孔口区域(8'),且由于一节流而产生进入该气体喷枪(3)之该气流的一流动压力损失。在该第一孔口区域(8)下方,提供一延伸截面(6),其邻接该气体喷枪(3)且在该第一孔口区域(8)下方具有一开口(7)。
申请公布号 TW200848153 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW096134271 申请日期 2007.09.13
申请人 高奇薄膜系统公司 发明人 史帝芬 夏佛;克劳斯 弗班科尔;德克 富马林;达伦 劳伦斯
分类号 B01D65/02(2006.01);B05B1/16(2006.01) 主分类号 B01D65/02(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 德国