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凸块下金属层结构及应用其之晶圆结构与晶圆结构之形成方法
摘要
一种凸块下金属层结构及应用其之晶圆结构与晶圆结构之形成方法。凸块下金属层结构包括一黏附层、一阻障层及一湿润层。黏附层设置于一晶圆之一接垫上,阻障层设置于黏附层上,湿润层设置于阻障层上。黏附层之材质为含硼之镍,阻障层之材质为钴,湿润层之材质为金。
申请公布号
TW200849428
申请公布日期
2008.12.16
申请号
TW096121429
申请日期
2007.06.13
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
余瑞益
分类号
H01L21/60(2006.01)
主分类号
H01L21/60(2006.01)
代理机构
代理人
林素华
主权项
地址
高雄市楠梓加工区经三路26号
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