发明名称 SOI基板的制造方法
摘要 本发明提供一种具有SOI层的SOI基板,该SOI基板即使使用玻璃基板等耐热温度低的基板也可以耐受实际使用。本发明还提供一种使用所述SOI基板的半导体装置。为了将单晶半导体基板接合到玻璃基板等基底基板,接合层例如使用以有机矽烷为原料,透过CVD法而形成的氧化矽膜。即使使用玻璃基板等耐热温度为700℃以下的基板,也可以形成接合部具有高结合力的SOI基板。另外,透过将雷射照射到从单晶半导体基板分离了的半导体层,将其表面平坦化,并恢复其结晶性。
申请公布号 TW200849495 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW097111444 申请日期 2008.03.28
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 山崎舜平;比嘉荣二;永野庸治;沟井达也;下村明久
分类号 H01L21/84(2006.01);H01L27/12(2006.01) 主分类号 H01L21/84(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本