发明名称 半导体装置及制造该装置之方法
摘要 本发明系有关一种半导体装置,其具有一基材与一半导体本体,并包含一双极电晶体依序具有一集极区,一基积区,与一射极区,其中该半导体本体含有一突出的凸体包含至少该集极区和基极区的一部份,该凸台系被一隔离区包围。依据本发明,该半导体装置亦包含一场效应电晶体,其具有一源极区、一汲极区、一中介通道区、一叠置的闸极介电层,及一闸极区,该闸极区形成该场效应电晶体的最高部份,而该凸台的高度系大于该闸极区的高度。此装置能以本发明的方法来便宜又容易地制造,且该双极电晶体能具有绝佳的高频特性。
申请公布号 TW200849556 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW096120980 申请日期 2007.06.11
申请人 恩智浦股份有限公司;寰宇微电子中心公司 发明人 西任 尔文;密利雅 乔斯特;凡诺特 韦伯D;当克斯 乔安斯J T M;穆讷 毕拉德 飞利浦;逢堤克 安卓斯M;崔里仁;凡赫柏克 史蒂芬
分类号 H01L27/06(2006.01);H01L21/822(2006.01) 主分类号 H01L27/06(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 比利时